氧化層硅片
熱氧化厚膜以?xún)?yōu)越的表面潔凈度與安定的質(zhì)量獲得全世界最高的市占率。
熱氧化厚膜以?xún)?yōu)越的表面潔凈度與安定的質(zhì)量獲得全世界最高的市占率。
產(chǎn)品介紹
“氧化層硅片”用途
Undercladding wafer for AWG
在數(shù)組波導(dǎo)光柵(AWG)里，被稱(chēng)為Under clad層之最下層的SiO2膜對(duì)生產(chǎn)良率有著非常大的決定性作用。
§保證規(guī)格
項(xiàng)目 | 規(guī)格 |
膜厚 | 20um±5%（最大膜厚度） |
面內(nèi)均一性 | ±0.5% |
面間均一性 | ±0.5% |
折射率(@1550nm) | 1.4458±0.0001 |
§標(biāo)準(zhǔn)品一覽
尺寸 | 晶圓厚度 | 熱氧化膜厚度 |
4inch | 525um 1mm | 15um、20um |
6inch | 625um 675um 1mm | 15um、20um |
8inch | 725um | 15um、20um |
12inch | 775um | 15um |
其他晶圓尺寸以及膜厚依顧客需求定制（厚度范圍 ：0.1-30μm）
§折射率面內(nèi)分布表面粗度數(shù)據(jù)
§無(wú)塵室
“氧化層硅片”用途
Undercladding wafer for AWG
在數(shù)組波導(dǎo)光柵(AWG)里，被稱(chēng)為Under clad層之最下層的SiO2膜對(duì)生產(chǎn)良率有著非常大的決定性作用。
§保證規(guī)格
項(xiàng)目 | 規(guī)格 |
膜厚 | 20um±5%（最大膜厚度） |
面內(nèi)均一性 | ±0.5% |
面間均一性 | ±0.5% |
折射率(@1550nm) | 1.4458±0.0001 |
§標(biāo)準(zhǔn)品一覽
尺寸 | 晶圓厚度 | 熱氧化膜厚度 |
4inch | 525um 1mm | 15um、20um |
6inch | 625um 675um 1mm | 15um、20um |
8inch | 725um | 15um、20um |
12inch | 775um | 15um |
其他晶圓尺寸以及膜厚依顧客需求定制（厚度范圍 ：0.1-30μm）
§折射率面內(nèi)分布表面粗度數(shù)據(jù)
§無(wú)塵室
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